COMUNICACIÓN ORAL | 21 noviembre 2017, martes | Hora: 15:30
AUTORES
Fernández Pajarín, Gustavo 1; Sesar Ignacio, Angel 1; Ares Pensado, Begona 1; Relova Quinteiro, Jose Luis 2; Gelabert González, Miguel 3; Arán Echabe, Eduardo 3; Jiménez Martín, Isabel 1; Castro García, Alfonso 1
CENTROS
1. Servicio de Neurología. Hospital Clínico Universitario de Santiago de Compostela; 2. Servicio: Neurofisiología. Complexo Hospitalario Universitario de Santiago; 3. Servicio de Neurocirugía. Complexo Hospitalario Universitario de Santiago
OBJETIVOS
La mayor parte de las complicaciones derivadas de la estimulación cerebral profunda (ECP) descritas hasta la fecha tienen que ver con el acto quirúrgico en si (complicaciones agudas) o son fruto de la propia estimulación. Sin embargo, pocos trabajos han analizado el impacto de las complicaciones tardías relacionadas con el material implantado. Al mismo tiempo que la experiencia en este campo crece, se identifican nuevas complicaciones.
MATERIAL Y MÉTODOS
Se han revisado de manera retrospectiva un total de 249 pacientes intervenidos en nuestro centro entre enero de 2000 y diciembre de 2016, totalizando 321 intervenciones. El núcleo subtalámico fue la diana más empleada (225 pacientes).
RESULTADOS
Nuestros resultados muestran que la complicación tardía más frecuente es la infección del material (12.5%). La rotura de un electrodo es la segunda complicación más frecuente (9.3%). El edema y la formación de quistes alrededor del electrodo son complicaciones excepcionales. 54 pacientes (21.7%) necesitaron al menos una reintervención.
CONCLUSIONES
El conocimiento más detallado de las complicaciones de la ECP nos permite alcanzar soluciones cada vez más adecuadas. En caso de infección, el tratamiento conservador o la retirada parcial del sistema de ECP es segura y razonable. Las complicaciones tardías intracraneales como el edema o la formación de quistes pueden aparecer varios años después del implante del material y tienen por lo general un buen pronóstico.
